本校工学研究院的金森义明副教授和羽根一博教授组成的研究小组，开发了在光纤的尖端制作大量微小，成凹状的抗反射结构的技术。光纤已作为光学通信和光分析装置过程的部件被使用，为了减少与光源、光敏感元件和镜片等光学元件的连接中的损耗，在光线尖端开发了抗反射薄膜。
此次，为了在光纤尖端制造纳米构造，开发了专用的纳米压印光刻装置。较以前的抗反射薄膜具有更高的设计自由度，可以满足各种抗反射表面的制作要求。
有关此研究的详情将在2010年11月12日召开的纳米技术国际会议上被发表。（会议召开地点∶日本北九州市 小仓RIHGA ROYAL饭店)

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