东北大学流体科学研究所的石本淳副教授和寒川诚二教授等研究小组开发了在半导体元件制造过程中不可欠缺的清洗步骤中不使用有害物质的新技术。

现在的等离子照射和使用有害药剂进行清洗的两个步骤将简化为喷涂固态氮的一个步骤。

使用本技术可以回避清洗程序中由于等离子照射而产生的配线损伤，特别是对易受氧自由基影响而受损的设备非常有效，作为环境调和型环保清洗技术备受瞩目。

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联系方式

流体科学研究所附属流体融合中心

实事象融合计算研究领域

副教授 石本 淳

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