东北大学多元物质科学研究所•丰田光纪（Toyoda Mitsunori）助教等人的研究小组，与兵库县立大学以及株式会社EUVL基础设施发展中心的共同研究中，使用独自开发的EUV多层镜显微镜，成功观测到了16纳米级的EUV光刻技术的高空间分辨率的遮罩。使用该显微镜，首次成功定量评价了使用16纳米级的遮罩上残留的少许缺陷对烘制过程中的微细电路图案的影响程度。

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东北大学 多元物质科学研究所

负责人：丰田光纪（Toyoda Mitsunori）（助教）、角馆俊行（Kakudate Toshiyuki）（技术职员）

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