본 대학 다원물질과학연구소의 무라마츠 아츠시 교수, 카니에 키요시 부교수와 DOWA 일렉트로닉스（주）의 연구그룹은 인듐주석산화물(ITO) 나노입자의 대량합성법의 개발연구를 진행중이나, 이번에 열이력을 거치지 않고 원자레벨에서 Sn 이 산화인듐 속에 도프된 고결정성 ITO 단분산 입자의 일단계 합성에 세계 최초로 성공했다.

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