2012년 | 프레스 릴리스
EUV 밀러 현미경으로 16nm 세대 리소그래피 마스크의 고분해 능력 관찰에 성공
동북대학 다원물질 과학 연구소・토요다 미츠노리(豊田 光紀) 조교들의 연구 그룹은 효고(兵庫) 현립(県立) 대학 및 주식회사 EUVL 기반 개발 센터와의 공동 연구로 독자적으로 개발한 EUV 다층막 밀러 현미경으로 16nm 세대용의 EUV 리소그래피용 마스크를 높은 공간 분해 능력으로 관측하는 것에 성공하였습니다. 이 현미경에 의해 16nm 세대용 마스크의 위에 미세하게 잔류하는 결함이, 세포 회로 패턴의 인화 시에 미치는 영향의 크기를, 정량적으로 평가하는 것에 최초로 가능하게 되었습니다.
문의처:
동북대학 다원물질 과학 연구소
담당: 토요다 미츠노리(豊田 光紀)(조교), 카쿠다테 토시유키(角館 俊行)(기술 직원)
toyoda*tagen.tohoku.ac.jp
kakudate*tagen.tohoku.ac.jp (*를 @로 바꿔 주시기 바랍니다.)
전화번호 : 022-217-5378
