동북대학 전기통신 연구소 후키도메 히로카즈(吹留 博一) 준 교수의 연구 그룹은, 동북대학 대학원 공학 연구과 및 (공립 재단)고휘도 광과학 연구센터와 공동으로, 차세대 재료로 유망시 되고 있는 그라핀(Graphene)과 Si테크놀로지와의 융합장치의 실현을 위한 미세가공 Si기판상에 대한 그라핀의 위치 선택적인 결정 성장기술의 확립에 처음으로 성공했습니다. 본 연구성과는 입체적인 그라핀의 다기능 집적회로의 기반기술이 될 것으로 기대됩니다.

상세(일본어)

[문의처]
동북대학 전기통신 연구소 준 교수 후키도메 히로카즈(吹留 博一)
E-mail: fukidome*riec.tohoku.ac.jp (*를 @로 바꿔 주시기 바랍니다）
tel/fax: 022-217-5484