2010年 | プレスリリース
新IV族半導体材料・プロセスに関する国際共同研究推進体制の構築 (電気通信研究所 室田教授)
東北大学電気通信研究所の室田淳一教授は新IV 族半導体材料・プロセスに関する最先端の世界的な共同研究推進体制(Excellence Initiative for New Group IV Semiconductor Material & Processing)を構築したことを公表しました。ユビキタス情報化社会の発展には、パソコンや携帯電話などに用いられる大規模半導体集積回路のより一層の超大容量化・超低消費電力化・超高速化すなわちナノ集積化が求められます。
室田教授が中心となり、EI4GroupIV が世界中の新IV族半導体材料・プロセス技術に関する最先端研究開発グループ間の世界的な連携組織として結成致しました。新しい材料・プロセス技術が新構造デバイス・システムに適用されていくことによって初めて、次世代デバイス性能の目標水準やその極限値が具体的なものとなり、最先端IV 族半導体関連研究の進むべき道が示されるものと期待できます。
[問い合わせ先]
東北大学電気通信研究所 担当者 教授 室田淳一
電話: 022-217-5548
メール: murota*riec.tohoku.ac.jp ( * を @に置き換えて下さい)
http://www.murota.riec.tohoku.ac.jp