本文へ
ここから本文です

酸化物高温強磁性半導体に潜む特異な原子配列の3D原子像化に成功 -高温強磁性の謎解明へ-

国立大学法人東北大学金属材料研究所 林 好一准教授、国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 胡雯博士研究員(現米国ブルックヘブン国立研究所)を中心とする研究グループは、国立大学法人東京大学大学院、公立大学法人広島市立大学、国立大学法人熊本大学、公益財団法人高輝度光科学研究センターとの共同研究により、酸化物高温強磁性半導体に潜む亜酸化ナノ構造体を原子レベルで三次元的に可視化することに成功し、高温強磁性発現の謎解明に向けて大きく前進しました。

図3

蛍光X線ホログラフィーによる原子像と第一原理計算を用いて最終的に得られた亜酸化ナノ構造体の原子配列モデル。
コバルトを中心とした亜酸化ナノ構造体が隣り合うことによってルチル構造をもつ酸化チタンの中で安定化します。

詳細(プレスリリース本文)PDF

問い合わせ先

(研究内容について)
東北大学金属材料研究所 
准教授 林 好一
TEL:022-215-2078

(報道について)
東北大学金属材料研究所総務課総務係
TEL:022-215-2181
FAX:022-215-2184
E-mail:imr-som*imr.tohoku.ac.jp(*を@に置き換えてください)

このページの先頭へ