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青紫色レーザー描画でスーパーキャパシタ-集積化可能な平面型構造で高性能フレキシブル-

東北大学多元物質科学研究所の渡辺明准教授と蔡金光助教のグループは、青紫色半導体レーザーを用いて高分子フィルム上に微細なカーボン電極構造を直接描画することにより、安価なカーボン材料による平面型スーパーキャパシタとしては、世界最高の静電容量を有するフレキシブルで高性能なマイクロスーパーキャパシタの開発に成功しました。このキャパシタは、小型で低コスト高エネルギー効率な青紫色半導体レーザーを用いた描画によって、フレキシブルな高分子フィルム平面上に集積化して形成できることから、今後ウェアラブル・フレキシブル電子デバイスなどの電源用途としての応用が期待されます。

本研究成果は、英国王立化学会が発行する材料化学の専門誌「Journal of Materials Chemistry A」誌・電子版に平成28年1月8日に掲載されました。また、東京ビッグサイトで開催される世界最大級の国際ナノテクノロジー総合展・技術会議 nano tech 2016(2016年1月27日(水)~1月29日(金))に、文部科学省 科学研究費 新学術領域研究「元素ブロック高分子材料の創出」の研究成果の一つとして、本研究を出展いたします。

青紫色半導体レーザー直接描画法によるポリイミドフィルムへのマイクロカーボン電極形成のイメージ

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問い合わせ先

東北大学多元物質科学研究所
准教授 渡辺 明(わたなべ あきら)
E-mail: watanabe*tagen.tohoku.ac.jp(*を@に置き換えてください)
Tel: 022-217-5851

助教(研究特任) 蔡 金光(さい じんがん)
E-mail: cai*tagen.tohoku.ac.jp(*を@に置き換えてください)
Tel: 022-217-5851

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