本文へ
ここから本文です

数理的枠組みにより微小電線の形成過程を再現-ナノエレクトロニクスへの応用に期待

京都大学物質ー細胞統合システム拠点(iCeMS=アイセムス)のダニエル・パックウッド(Daniel Packwood)講師(国立研究開発法人科学技術振興機構さきがけ数学領域研究者)、東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI-AIMR)のパトリック・ハン(Patrick Han)助教、東京工業大学物質理工学院の一杉太郎(ひとすぎ・たろう)教授(WPI-AIMR客員教授)は、新しい数理的フレームワークを構築することにより、「グラフェンナノリボン」という毛髪直径の100,000分の1ほどの微小な電線の形成過程を明らかにしました。この数理的フレームワークは機械学習、数理モデルを組み合わせたもので、グラフェンナノリボンの形成過程に生じる分子配列の予測が可能になり、極微小エレクトロニクスへの道を拓くことが期待されます。

 本成果は、英国時間2017年2月14日午前10時(日本時間14日午後7時)に英オンライン科学誌「Nature Communications(ネイチャーコミュニケーションズ)」で公開されました。

研究図画

グラフェンナノリボンとそのサイズの比較。茶色の球面:炭素原子、白い球面:水素原子(グラフェンナノリボンと分子はコンピューター生成イメージ)

詳細(プレスリリース本文)PDF

問い合わせ先

東北大学原子分子材料科学高等研究機構(WPI-AIMR)
広報・アウトリーチオフィス
皆川 麻利江(ミナガワ マリエ)
TEL : 022-217-6146
E-MAIL : aimr-outreach*grp.tohoku.ac.jp(*を@に置き換えてください)

このページの先頭へ